特長/用途例 レーザ加熱実験 仕様 カタログ/お問合せ     "ExLASER" は多機能型レーザー瞬間加熱装置です 特長 超高速な昇温降温が可能     被加熱対象物のみへの直接加熱が可能     雰囲気を加熱せず省エネを実現       2インチ基板を1ショットで均一加熱     プロセスに合った温度制御も可能             急速昇温　100℃→1000℃　4sec 急速降温　1000℃→400℃　7sec （2インチ径×0.3tシリコン基板　真空中10-3Pa）   2インチ径のシリコン基板を加熱した時 被加熱物の温度の均一性は1000℃で±3℃です   雰囲気を加熱せずに被加熱対象物のみへの直接加熱が可能です。 用途例   MBE装置の基板加熱         ウェハーのアニール（SiC、GaAS、etc.）         多層構造デバイスの表層アニールが可能（微細化デバイス対応） etc.         HOME Copyright（C）2007 SAKAGUCHI E.H VOC CORP. All Rights Reserved.